低壓真空滲碳是在低壓真空狀態下，通過多次強滲+擴散過程，以達到零件滲層深度要求的工藝過程，其控制方法為“飽和值調整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和，在擴散期固溶的碳向內部擴散到目標的要求值，通過調整滲碳、擴散時間比，達到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。