低壓真空滲碳是在低壓真空狀態下，通過多次強滲+擴散過程，以達到零件滲層深度要求的工藝過程，其控制方法為“飽和值調整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和，在擴散期固溶的碳向內部擴散到目標的要求值，通過調整滲碳、擴散時間比，達到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。
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真空滲碳
真空滲碳
產品描述
參數
低壓真空滲碳是在低壓真空狀態下，通過多次強滲+擴散過程，以達到零件滲層深度要求的工藝過程，其控制方法為“飽和值調整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和，在擴散期固溶的碳向內部擴散到目標的要求值，通過調整滲碳、擴散時間比，達到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。
低壓真空滲碳的優點：
(1)無內氧化，能顯著提高零件表面疲勞性能;
(2)處理后畸變小;
(3)計算機控制，滲碳精度高;
(4)處理后產品表面呈光亮狀，可不經清洗、噴丸工序。
現有設備最大處理尺寸：長1500mm X 寬1500mm X 高 780mm
詳情參數
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無
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真空離子氮化
生產基地：河南省鄭州市滎陽五龍工業園 城關鄉楊垌 站長統計
聯系電話：0371-64753955
移動電話: 13783552391 18638141764 13014512790
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