低壓真空滲碳是在低壓真空狀態下,通過多次強滲+擴散過程,以達到零件滲層深度要求的工藝過程,其控制方法為“飽和值調整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和,在擴散期固溶的碳向內部擴散到目標的要求值,通過調整滲碳、擴散時間比,達到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。

全部分類
調質,正火,固溶
調質,正火,固溶
產品描述
參數
可實現常規調質、整體淬火、正火、退火、水韌、固溶和時效等各類熱處理工藝350余種。
詳情參數
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特大工件淬火退火
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無

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